Модифікація наношарів у високочастотній плазмі з пониженим тиском

Модифікація наношарів у високочастотній плазмі з пониженим тиском

book type
0 Відгук(ів) 
LF/169252/R
Російська
В наявності
95,00 грн
80,75 грн Збережіть 15%
  Моментальне завантаження 

після оплати (24/7)

  Широкий вибір форматів 

(для всіх пристроїв)

  Повна версія книги 

(в т.ч. для Apple та Android)

Робота присвячена модифікації поверхневого нанослою металів, їх сплавів, напівпровідників, діелектриків, тонкоплівкових покриттів за допомогою високочастотних розрядів індукційного та ємнісноготипів при зниженому тиску. Описується фізична і математична моделі модифікації поверхні матеріалів у високочастотній плазмі зниженого тиску, а також результати теоретичного дослідження закономірностей формування основних параметрів процесу модифікації.
LF/169252/R

Характеристики

ФІО Автора
Абдуллин И. Ш.
Желтухин В. С.
Казан. гос. технол. ун-т
Сагбиев И. Р.
Шаехов М. Ф.
Мова
Російська

Відгуки

Напишіть свій відгук

Модифікація наношарів у високочастотній плазмі з пониженим тиском

Робота присвячена модифікації поверхневого нанослою металів, їх сплавів, напівпровідників, діелектриків, тонкоплівкових покриттів за допомогою високочастотних р...

Напишіть свій відгук

15 книг цього ж автора

Товари з цієї категорії: