Модифікація наношарів у високочастотній плазмі з пониженим тиском

після оплати (24/7)
(для всіх пристроїв)
(в т.ч. для Apple та Android)
Робота присвячена модифікації поверхневого нанослою металів, їх сплавів, напівпровідників, діелектриків, тонкоплівкових покриттів за допомогою високочастотних розрядів індукційного та ємнісноготипів при зниженому тиску. Описується фізична і математична моделі модифікації поверхні матеріалів у високочастотній плазмі зниженого тиску, а також результати теоретичного дослідження закономірностей формування основних параметрів процесу модифікації.
LF/169252/R
Характеристики
- ФІО Автора
- Абдуллин И. Ш.
Желтухин В. С.
Казан. гос. технол. ун-т
Сагбиев И. Р.
Шаехов М. Ф. - Мова
- Російська